-
Hochleistungsobjektiv M Plan Apo HL 20x für Mikroskop
-
IPLAN 50x10 NIR-Objektiv – 50x/0,67 Unendlichkorrigiertes Planapochromat, Arbeitsabstand 10 mm, 532–1064 nm, mit technischer Zeichnung
-
NIR-50X-95-NA0.67-10 – 50x/0,67 Unendlichkorrigiertes Mikroskopobjektiv, Arbeitsabstand 10 mm, 532–1064 nm, M26-Gewinde, Schutzfenster
-
M Plan Apo 10x Mikroskopobjektiv | Apochromatisch, Hellfeld | für die Halbleiter- und Leiterplatteninspektion
-
NUV Plan Apo 50x/0,7 Objektiv – Nah-Ultraviolett-optimiert, unendlichkeitskorrigierter Planapochromat, 95 mm parfokal, M26-Gewinde
-
Nuv Plan Apo Objektiv für Mikroskope, 50x, Pfl95mm, Na0.7, FL3.5 (Sonderangebot)
-
Wellenlängen-Stereomikroskop, inverses Mikroskop
-
Plan 20X/0,4 Unendlichkorrigiertes Objektiv – Planfeld-Achromat, Arbeitsabstand 11,1 mm für industrielle und biologische Mikroskopie
-
NIR Plan Apo 50X/0,67 – Unendlichkorrigiertes metallurgisches Objektiv für die Durch-Silizium-Bildgebung und die Prozessüberwachung mit Faserlasern
-
20-fache achromatische Mikroskop-Objektivlinse mit Antireflexbeschichtung, OEM-Unterstützung
-
5-fach planapochromatisches Objektiv mit Arbeitsabstand 38,8 mm – Hohe numerische Apertur 0,15, ebenes Bildfeld für die industrielle Mikroskopie
-
NIR PLAN APO 10X/0,28 – Planapochromatisches Objektiv mit Unendlichkeitskorrektur, f=200mm Tubuslinse, für Nahinfrarotmikroskopie