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IPLAN 50x10 NIR-Objektiv – 50x/0,67 Unendlichkorrigiertes Planapochromat, Arbeitsabstand 10 mm, 532–1064 nm, mit technischer Zeichnung

IPLAN 50x10 NIR-Objektiv – 50x/0,67 Unendlichkorrigiertes Planapochromat, Arbeitsabstand 10 mm, 532–1064 nm, mit Abbildung der technischen Zeichnung
  • IPLAN 50x10 NIR-Objektiv – 50x/0,67 Unendlichkorrigiertes Planapochromat, Arbeitsabstand 10 mm, 532–1064 nm, mit technischer Zeichnung
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IPLAN 50x10 NIR-Objektiv – 50x/0,67 Unendlichkorrigiertes Planapochromat, Arbeitsabstand 10 mm, 532–1064 nm, mit technischer Zeichnung

Das IPLAN 50x10 NIR ist ein hochwertiges, unendlichkeitskorrigiertes, planapochromatisches Mikroskopobjektiv, das speziell für anspruchsvolle Aufgaben in der Nahinfrarot-Bildgebung (NIR) und der Lasermaterialbearbeitung entwickelt wurde. Mit einer 50-fachen Vergrößerung und einer numerischen Apertur (NA) von 0,67 bietet es eine außergewöhnliche Auflösung (Beugungsgrenze ~0,5 µm bei 550 nm) bei gleichzeitig praktischem Arbeitsabstand von 10 mm – ideal für die Inspektion dicker Wafer, die Beobachtung von Laser-Material-Wechselwirkungen und die Integration in industrielle Automatisierungszellen.

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IPLAN 50X10 NIR Zeichnung


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